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Intel將被反超 台積電7nm工藝明年投產

之前三星宣布自家8/7/6/5/4nm工藝已在路上,今天台積電也不甘示弱地宣稱將在2018年量產7nm,而且一年後再投產EUV極紫外光刻技術加持的新版7nm。

EUV技術是半導體領域多年來一直夢寐以求的里程碑式技術,如果達成可以大大向前推進摩爾定律,並大幅度提高產能,但該技術過於複雜,一再推遲,就連Intel也始終搞不定。

三星計劃在7nm工藝上首次使用EUV,時間點不詳,估計最快也得2019年,理論上和台積電差不多。

7nm工藝則可以同時適用於移動設備、高性能計算和汽車領域,目前已有12款移動晶元完成流片。據稱AMD、NVIDIA都會使用台積電7nm。

繼續往前,台積電的5nm則主打移動設備和高性能計算,以及2019年試產。



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本文由 yidianzixun 提供 原文連結

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