Zi 字媒體

目前 ASML 是全球唯一一家能夠量產 EUV（極紫外光微影）光刻機的廠商，不管是現階段台積電、三星、Intel 的 7 nm 甚至是未來的 3 nm 與 2 nm 都需仰賴 ASML 的 EUV 光刻機，而單台 EUV 光刻機的售價超過 1 億美元，可以說是成本極高的機器。 ASML 的 EUV 光刻機目前使用的仍是第一代的版本，EUV 光源波長在 13.5 nm 左右，物鏡的 NA 數值孔徑是 0.33 所開發的一系列型號。 其中最早量產出廠的是 NXE:3400B，產能有限，一小時生產晶圓是 125 WPH，而目前的出貨主力是 NXE:3400C，產能提升到了 170 WPH，今年底還有全新的 NXE:3600D 系列將會出貨，產能是 160 WPH，價格為 1.45 億美元。 ASML 第二代 EUV 光刻機恐跳票三年，價格也將大漲 不過目前第一代 EUV 光刻機的 NA 指標太低，傳聞是第二代 EUV 光刻機的 NXE:5000 系列，有望將其物鏡的 NA 提升至 0.55，可以進一步提高光刻精度，而半導體製程想要突破 1 nm 的難關就要依靠下一代的光刻機了。 然而，NA 0.55 的第二代 EUV 光刻機並沒有那麼容易製造，原本預計最快將會在 2023 年上市的 NXE:5000 系列，最新傳聞表示已經跳票，而且一下子就跳票三年，可能要等到 2025～2026 年才有機會上市。 不過時間延期還不是最糟的，第二代 EUV 光刻機的價格也同樣會大漲，一台 EUV 光刻機預估將達到 3 億美元，是目前第一代 EUV 光刻機的 2～3 倍。 這同時也意味著未來高階晶片製程的成本會極為昂貴，哪怕真的能做到 1 nm 的製程，這樣的成本可能也會令大多數公司卻步，目前來看恐怕只有 Apple 有這樣的本錢。